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G-33型高精密双面光刻机

简介—— 四川光刻机之G-33型:一、 设备的主要用途本设备主要适用于电力电子器件、机车电子器件、传感器件、石英晶体振荡器、混合电

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四川光刻机


四川光刻机之G-33型:

一、 设备的主要用途

本设备主要适用于电力电子器件、机车电子器件、传感器件、石英晶体振荡器、混合电器、双向可控硅、对地放电二极管及功率半导体器件等基片正反两面需要进行对准(套刻)的曝光。

二. 主要技术指标:

(1)本机采用双面对准单面曝光方式。

(2)基片X、Y、θ对准工作台,X、Y移动:±5mm,θ转角≤±5°。

(3)基片与掩膜对准精度(包括与记忆图形的对准精度)≤0.001mm。

(4)板架来回翻转重复精度≤0.004mm。

(5)采用蝇眼曝光头,曝光面积:≤Φ100mm,光的不均匀性:≤±3%,光强可调,350W直流汞灯。

(6)适用于Φ4″、Φ3″、Φ2″基片,配有三种不同的承片台和相对应的板架。

(7)显微系统放大倍数:51~323倍(连续变倍)。

三.设备的主要特点:

(1)采用计算机、软件对版上记忆的图形(光刻标记)对基片进行曝光。

(2)独特的翻板机构,使上版、下版、放片、取片非常方便。

(3)版的记忆图形、片下平面需要对准图形在同一水平面上,排除下面二个卧式显微镜需要下移一个片厚而引起的误差。

(4)本设备具备多重功能,它既是双面曝光机,又是普通曝光机,还可当一台检查双面对准精度的检查仪。

成都鑫南光机械设备有限公司是一家专业从事四川真空泵,四川光刻机,四川氢气炉生产及销售批发工作的企业,咨询电话:13908187709,028-85730519,拥有先进的技术装备和独特的设计,具有丰富的专用设备装配调试技术和经验。

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